Лазерные технологии
5. Процессы нагрева материалов при воздействии лазерного излучения Глубина прогретого слоя
Скачать Содержание

Глубина прогретого слоя


В практике некоторых технологических процессов принято оценивать зону термического влияния по глубине прогретого слоя xq, условно определяемого из соотношения T(xq) = 0,05T(0). Используя полученные решения (5.4–5.10), легко получить для трёх рассмотренных случаев следующие величины прогретых слоёв:

xq = 2,36 при rs ≫ ;

xq = 10rs при rs ≪ ;

xq = 3δ при rs ≫ .

Для острой фокусировки (rs ≪ ) при достижении минимального пятна rs ≃ λ (где λ — длина волны излучения) легко получить оценочную формулу

(5.11)

позволяющую приблизительно определить необходимую мощность P лазера для достижения на поверхности конкретной температуры T.